第53章 铍，三组不同的比例
苏哲看着惊呼的众人，脸上露出了笑容
此时此刻，牛光辉和司文博两人也是异常的兴奋
两人看着大屏幕上两组加工镜片的检测数据，知道这次是稳了
“不错不错！这样的结果才是我愿意看到的，这下大家也不用猜了，都能安心了”牛光辉笑着说
“的确！两组能有这样的检测数据，说明了DYN-离子束抛光技术的稳定性”司文博肯定的说，“老牛！要是你们搞的等离子体EUV光源突破了就好了，那我们造出来的EUV光刻机就有竞争力了”
“我也想啊！我们研究团队……”牛光辉还没说完，站在台上的包正义拿着话筒又喊了起来
“各位注意了，这两组的检测的结果还有提升空间，DYN-离子束抛光技术在理论上，镜面精度能够达到纳米的面型精度峰谷值和10皮米的表面粗糙度”
“有了DYN-离子束抛光技术，我们就能进军高端光学镜头市场了，最典型的就是EUV光学镜头，最为……”
苏哲听了一会儿，发现和范晓明说的一样，开始展望未来了
牛光辉和司文博两人笑了笑
“老牛！我们继续”司文博笑着说
“好！”牛光辉继续说等离子体EUV光源的问题
苏哲一边听着，一边在脑中快速的计算着
牛光辉相关的参数说的很详细，也点出了问题的所在，及锡滴在大功率波长微米红外光的照射下会出现不稳，导致的结果是无法获得波长纳米的紫外光
听完这些，苏哲没在听牛光辉和司文博两人的讨论了，自顾自的在大脑中计算起来
说来也巧，这等离子体EUV光源产生的原理和他研究的ZGZ-原子振动模型有点关系
他们大的框架是一样的，及原子在特定的状态下吸收了特定波长的电磁波，从而释放了波长特定的电磁波
相对来说，ZGZ-原子振动模型是个特列
苏哲有了搭建ZGZ-原子振动模型的经验，计算EUV光刻机使用的EUV光源的速度要快的多
先是计算出锡原子的状态信息，接着是计算锡原子在吸收波长微米红外光后的反应……
慢慢，锡原子吸收波长微米红外光，释放波长纳米的紫外光的模型出现在他的脑海中
至于锡滴在大功率的波长微米红外光的照射下不稳，其原因是在紫外光的照射下，部分锡原子的状态已经发生了改变
很显然，牛光辉他们是知道原因的，他们改进的方法是往锡滴中加入其他的金属
他通过计算，发现这个方向是对的，但加入的金属和加入金属的比例都有着严格的要求
加入其他金属的目的，是为了防止绝大多数锡原子在大功率红外光的照射下改变了原子的状态信息
牛光辉他们尝试着加入锂、铍、铝、钙、铁、